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清华大学模拟集成电路分析与设计期中试卷

  • 下载名称:清华大学模拟集成电路分析与设计期中试卷
  • 发布时间:2008-05-29
  • 关键字: 大学期末试卷 免费下载
::试卷简介::
《模拟集成电路分析与设计》期中考试试题
提醒:(1)除最后一题外,其它各题的解答请写在答题纸上,出现在试卷上的解答一律不作数;
(2)试卷上不要出现个人信息;
1. 判断下列说法是否正确,正确的标记为T 或√,错误的标记为F 或×,并简单说明原因;(30 分=3 分×10)
a) PN 结的势垒电容随着PN 结上所加反偏电压的增加而减小;
b) 亚阈值导通是一个短沟道效应,通常只有沟道长度小于2um 的MOS 晶体管才会发生亚阈值导通;
c) 在一定的条件下,源极跟随器可能产生振荡;
d) 可采用Cascode(共源共栅)技术来提高共源放大器的跨导;
e) 在电阻作负载的差分对中,尾电流源的输出阻抗只会影响共模增益,而对差模增益没有影响;
f) 在室温下,一个1000 欧姆的电阻产生的热噪声电压功率谱密度为4nV/ Hz ,因此,两个串联的1000 欧姆
电阻在室温下产生的总热噪声电压功率谱密度为8nV/ Hz ;
g) 单向化放大器的输入阻抗与输出端所接的负载阻抗有关;
h) 能隙基准源中的曲率效应(Curvature)主要是由晶体管有限的输出阻抗引起的;
i) 电阻作负载的共源放大器中,MOS 晶体管引入的低频噪声等效到输入端时的大小与负载阻抗没有关系;
j) 差分放大器因随机失配引起的失调电压是一个直流量,它不会影响放大器的小信号增益。
2. 下图给出了一个宽带放大器的电路图,其中各个晶体管均工作于饱和区,它们具有相同的沟道长度,且跨导效率
均为gm/ID=10V-1,特征频率均为fT=10GHz。各晶体管沟道宽度之间的关系为: W2=8W1、W3=2W1。若忽略晶体管
的沟道长度调制效应、衬底调制效应和除Cgs 之外的所有晶体
管电容,vi 是一个小信号电源,静态工作点时可认为短路,CF
是一个足够大的滤波电容,试回答如下问题:(15 分)
a) 计算该放大器的低频小信号增益;
b) 采用开路时间常数法计算该电路的-3dB 带宽;
c) 忽略晶体管的1/f 噪声,并假设晶体管沟道噪声电流中的
γ=1,试计算该放大器的输出噪声电压的总平均功率。
3. 下图给出了一个低压Cascode 电流镜的电路图,假设图中晶
体管的I-V 特性均可以采用长沟道方程来描述,并忽略晶体管
的沟道长度调制效应和衬底调制效应,若要使得M1 的漏源电
压为VDS1=M*Vov1(其中,M 是一个正数,Vov1 是饱和区工作的晶体管M1 的过驱动电压),试计算晶体管沟道宽长
比K3=W3/L3,将它表示为M 和K1=W1/L1 以及K2=W2/L2 的函数。(15 分)
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